Depozice, příprava a charakterizace tenkých vrstev

Zde naleznete techniky pro přípravu a charakterizaci tenkých vrstev. Depoziční techniky zahrnují fyzikální (PVD), chemické (CVD) i plazmochemické (PECVD) techniky. Plazmové leptání je zařazeno mezi PECVD techniky. Pro charakterizaci tenkých vrstev můžeme nabídnout elipsometry a reflektometry, optické a mechanické profilometry a případně maloúhlový rozptyl (GI)SAXS.

CVD - Chemická depozice z plynné fáze, ALD

CVD - Chemická depozice z plynné fáze, ALD

SENrese_4_0

Elipsometry a reflektometry

Elipsometry a reflektometry

Plazmochemická depozice a leptání – PECVD, RIE, PEALD

Plazmochemická depozice a leptání – PECVD, RIE, PEALD

PVD – napařovací a naprašovací depoziční systémy – PLD, MBE

PVD – napařovací a naprašovací depoziční systémy – PLD, MBE