MT-M.eu

home / Příprava a charakterizace tenkých vrstev /
home / Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD /

PRODUKTY:

CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200

Cenově dostupný modulární přístroj k leptání plazmou.

Etchlab 200 je základní, cenově efektivní nástroj pro procesy suchého plazmového leptání v oblasti vědy a výzkumu. Etchlab 200 se vyznačuje snadným a rychlým přímým zakládáním vzorků do velikosti až 200 mm, volitelně až 300 mm. Etchlab 200 je navržen pro maximální modularitu, flexibilitu a jednoduchost použití pro všechny procesy, při kterých je možné wafery vkládat přímo. Typické použití základní konfigurace je leptání dielektrik (SiO₂, Si₃N₄), polovodičů (Si), polymerů a kovů (Au, Pt, Ti, Ni).

Etchlab 200 je ovládán pokročilým software firmy SENTECH s uživatelsky přívětivým grafickým rozhraním. Jeho modulární design nabízí řadu možností rozšíření tak, aby bylo možné splnit požadavky a výzvy i nových pracovních úkolů.

Volitelné příslušenství:

•   Vakuový load lock
•   Wafery do velikosti až 300 mm (12")
•   Efektivnější čerpací systém s turbomolekulární vývěvou
•   Chlazení a ohřev reaktoru
•   Kontrola procesu – laserová interferometrie, optická emisní spektroskopie, hmotnostní spektroskopie (RGA)

Další informace můžete nalézt na stránkách výrobce Etchlab 200, nebo se obraťte na nás.

další produkty této měřící techniky:

• ICP RIE leptací aparatura SI 500
• CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
• ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
• PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
• PECVD depoziční aparatura Depolab 200
• Depoziční systém SI ALD
• Klastry pro depozice a leptání SENTECH
• nanoETCH Moorfield

Analýza a zobrazování povrchů

Příprava a charakterizace tenkých vrstev

Magnetická rezonance

Rentgenová difrakce, elementární analýza

Fluorescenční a superrezoluční mikroskopy

Měření záření a světla

Aktuálně:

Dodáváme přístroje těchto společností:

KONTAKTY / podrobně

CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200

Zákaznická sekce

Kontakty:

Napište nám: