MT-M.eu

home / Příprava a charakterizace tenkých vrstev /
home / Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD /

PRODUKTY:

CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact

Kompaktní modulární reaktor pro leptání halogeny

SI 591 compact nabízí excelentní reprodukovatelnost procesů a současně různorodost leptacích chemií díky vakuové zakládačce a plné počítačové kontrole parametrů plazmového leptání. Flexibilita, modularita a kompaktnost jsou základní charakteristiky designu SI 591 compact.

Vakuová zakládačka podporuje substráty a wafery do průměru až 200 mm. Reaktor může být doplněn řadou volitelných možností nebo upraven i pro používání přes zeď. Velké diagnostické okénko u horní elektrody může sloužit pro laserovou interferometrii, optickou emisní nebo hmotnostní spektroskopii. SI 591 compact je také vybaven porty pro laserovou elipsometrii. SI 591 compact je ovládán pokročilým software firmy SENTECH s uživatelsky přívětivým grafickým rozhraním.

SENTECH nabízí různé stupně automatizace od jedné vakuové zakládačky po cluster s až šesti porty s různými leptacími a depozičními moduly. Také SI 500 se nabízí jako modul pro leptací procesy do klastrových konfigurací.

Další informace můžete nalézt na stránkách výrobce SI 591, nebo se obraťte na nás.

další produkty této měřící techniky:

• ICP RIE leptací aparatura SI 500
• CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
• ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
• PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
• PECVD depoziční aparatura Depolab 200
• Depoziční systém SI ALD
• Klastry pro depozice a leptání SENTECH
• nanoETCH Moorfield

Analýza a zobrazování povrchů

Příprava a charakterizace tenkých vrstev

Magnetická rezonance

Rentgenová difrakce, elementární analýza

Fluorescenční a superrezoluční mikroskopy

Měření záření a světla

Aktuálně:

Dodáváme přístroje těchto společností:

KONTAKTY / podrobně

CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact

Zákaznická sekce

Kontakty:

Napište nám: