MT-M.eu

home / Příprava a charakterizace tenkých vrstev /
home / Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD /

PRODUKTY:

Depoziční systém SI ALD

ALD/PEALD s vzdáleným zdrojem plazmatu pro citlivé vzorky

SI ALD systém firmy SENTECH je možné použít ve standardním tepelném režimu nebo v režimu s využitím plazmy, který dovoluje homogenní a konformní depozici na citlivé vzorky za nízké teploty (< 100°C). SI ALD lze konfigurovat pro depozici oxidů, nitridů a kovů; jednotlivé tepelné a plazmové procesy lze v SI ALD kombinovat pro přípravu vrstevnatých struktur.

SENTECH k SI ALD nabízí špičkový systém pro monitorování růstu vrstvy po vrstvě v reálném čase ALD Real Time Monitor. Pravidelné čistění SI ALD systému je usnadněno možností jednoduše otevřít reaktorovou komoru.

SI ALD systémy jsou dostupné také jako moduly pro integraci do klastrů SENTECH. Mohou být tak zkombinovány s PECVD a leptacími systémy s možností předávání z waferu z kazety na kazetu.

Další informace můžete nalézt na stránkách výrobce SI ALD, nebo se obraťte na nás.

další produkty této měřící techniky:

• ICP RIE leptací aparatura SI 500
• CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
• CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
• ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
• PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
• PECVD depoziční aparatura Depolab 200
• Klastry pro depozice a leptání SENTECH
• nanoETCH Moorfield

Analýza a zobrazování povrchů

Příprava a charakterizace tenkých vrstev

Magnetická rezonance

Rentgenová difrakce, elementární analýza

Fluorescenční a superrezoluční mikroskopy

Měření záření a světla

Aktuálně:

Dodáváme přístroje těchto společností:

KONTAKTY / podrobně

Depoziční systém SI ALD

Zákaznická sekce

Kontakty:

Napište nám: