Měřicí technika morava

home / Příprava a charakterizace tenkých vrstev /
home / Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD /

PRODUKTY:

Klastry pro depozice a leptání SENTECH

Klastrové nástroje SENTECH mohou obsahovat všechny přístroje firmy SENTECH pro leptání a depozice společně s vakuovými zakládacími komorami a kazetovými stanicemi. Centrem klastru je komora pro přesun mezi moduly s manipulačním robotem, která může být vybavena třemi až šesti porty. SENTECH dodává klastry orientované dvěma hlavními směry - s vysokou prostupností waferů pro průmysl a pro oblast výzkumu a vývoje.

Klastr s vysokou prostupností

Moduly pro plazmové leptání a depozici mohou být kombinovány s až dvěma kazetovými stanicemi pro vysokou prostupnost pro wafery až do 200 mm. Klastr je ovládán dedikovaným software orientovaným pro potřeby průmyslu.

Klastr pro výzkum vývoj

Komory pro přesun jsou dostupné pro klastrování přístrojů pro ICP a RIE plazmové leptání, ALD, PECVD A ICPECVD depozice, tak aby splnily požadavky zákazníků z oblasti vývoje a výzkumu. Vzorky lze zakládat přes load lock nebo kazetovou stanici. Klastr je ovládán standardním softwarem firmy SENTECH s jedním grafickým uživatelským rozhraním.

Další informace a názorné obrázky můžete nalézt na stránkách firmy SENTECH, nebo se obraťte na nás.

další produkty této měřící techniky:

• ICP RIE leptací aparatura SI 500
• CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
• CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
• ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
• PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
• PECVD depoziční aparatura Depolab 200
• Depoziční systém SI ALD
• nanoETCH Moorfield

Analýza a zobrazování povrchů

Příprava a charakterizace tenkých vrstev

Magnetická rezonance

Rentgenová difrakce, elementární analýza

Fluorescenční a superrezoluční mikroskopy

Měření záření a světla

Aktuálně:

Dodáváme přístroje těchto společností:

KONTAKTY / podrobně

Klastry pro depozice a leptání SENTECH

Zákaznická sekce

Kontakty:

Napište nám: