Cenově dostupný modulární PECVD depoziční reaktor 

Depolab 200 je základní plazmochemický (PECVD - plasma enhanced chemical vapour deposition) reaktor od firmy SENTECH kombinující výhody jednoduchého designu paralelních elektrod pro uniformní depozici a cenově efektivního přímého vládání vzorků na elektrodu. V základní konfiguraci obsahuje vše potřebné pro depozice na až 8" wafery a může být krok po kroku doplňován pro komplexnější procesy.

Význačné vlastnosti PECVD reaktoru Depolab 200 je spolehlivost, odolný design systému a flexibilita softwaru i hardwaru. Depolab 200 je navržen pro plazmochemickou depozici tenkých vrstev SiO2, SiNx, SiONx, a a-Si v teplotním rozsahu až do 400 °C. Na systému již byla vyvinuta řada procesů pro depozice vysoce kvalitních vrstev. Depolab 200 je zejména vhodný pro depozice dielektrických vrstev pro leptací masky, membrány, elektricky izolující vrstvy a další.

Depolab 200 je ovládán pokročilým software firmy SENTECH s uživatelsky přívětivým grafickým rozhraním.

Další informace můžete nalézt na stránkách výrobce Depolab 200, nebo se obraťte na nás.




další produkty této měřící techniky:
      • ICP RIE leptací aparatura SI 500
      • CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
      • CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
      • ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
      • PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
      • Depoziční systém SI ALD
      • Klastry pro depozice a leptání SENTECH
      • nanoETCH Moorfield

  Kontakty:


Měřicí technika Morava s.r.o, Babická 619, 664 84 Zastávka u Brna, Česká republika

e-mail: info@mt-m.eu         tel: + 420 513 034 408               podrobné kontakty:         on line schůzka:

Napište nám: