MT-M.eu

home / Příprava a charakterizace tenkých vrstev /
home / Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD /

PRODUKTY:

PECVD depoziční aparatura Depolab 200

Cenově dostupný modulární PECVD depoziční reaktor

Depolab 200 je základní plazmochemický (PECVD - plasma enhanced chemical vapour deposition) reaktor od firmy SENTECH kombinující výhody jednoduchého designu paralelních elektrod pro uniformní depozici a cenově efektivního přímého vládání vzorků na elektrodu. V základní konfiguraci obsahuje vše potřebné pro depozice na až 8" wafery a může být krok po kroku doplňován pro komplexnější procesy.

Význačné vlastnosti PECVD reaktoru Depolab 200 je spolehlivost, odolný design systému a flexibilita softwaru i hardwaru. Depolab 200 je navržen pro plazmochemickou depozici tenkých vrstev SiO₂, SiN_x, SiON_x, a a-Si v teplotním rozsahu až do 400 °C. Na systému již byla vyvinuta řada procesů pro depozice vysoce kvalitních vrstev. Depolab 200 je zejména vhodný pro depozice dielektrických vrstev pro leptací masky, membrány, elektricky izolující vrstvy a další.

Depolab 200 je ovládán pokročilým software firmy SENTECH s uživatelsky přívětivým grafickým rozhraním.

Další informace můžete nalézt na stránkách výrobce Depolab 200, nebo se obraťte na nás.

další produkty této měřící techniky:

• ICP RIE leptací aparatura SI 500
• CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
• CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
• ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
• PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
• Depoziční systém SI ALD
• Klastry pro depozice a leptání SENTECH
• nanoETCH Moorfield

Analýza a zobrazování povrchů

Příprava a charakterizace tenkých vrstev

Magnetická rezonance

Rentgenová difrakce, elementární analýza

Fluorescenční a superrezoluční mikroskopy

Měření záření a světla

Aktuálně:

Dodáváme přístroje těchto společností:

KONTAKTY / podrobně

PECVD depoziční aparatura Depolab 200

Zákaznická sekce

Kontakty:

Napište nám: