nanoETCH - dedikované přístroje pro šetrné leptání 2D materiálů

Systémy nanoETCH firmy Moorfield poskytují přesnou kontrolu podmínek nutnou pro šetrné leptání (soft-etching) 2D materiálů a pro přípravu substrátů pro jejich exfoliaci. nanoETCH byl vyvinut ve spolupráci s grafénovou skupinou Univerzity Manchester, která za svůj objev nedávno získala Nobelovu cenu.

Jádrem přístrojů nanoETCH je precizní kontrola radio-frekvenčního výkonu a přívodu procesních plynů, která dovoluje provést leptací procesy nutné pro výzkum 2D materiálů, jako je grafén a dichalkogenidy přechodných kovů (transition metal dichalcogenides TMDCs), na nejvyšší světové úrovni. nanoETCH je snadno použitelné, stolní zařízení, které nabízí rychlé opracování substrátů a materiálů díky plně automatickému provozu a jednoduchému uživatelskému rozhraní s dotykovou obrazovkou.


Klíčové vlastnosti:


• soft-etching 2D materiálů
• příprava substrátů pro mechanickou exfoliaci
• precizní kontrola RF výkonu do 30 W
• až 3 procesní plyny
• plně automatický provoz ovládaný z dotykové obrazovky
• stolek o průměru až do 6”
• navržený pro snadný servis
• řada bezpečnostních interlocků
• kompatibilní s čistými prostory
• výkon prokázaný řadou špičkových publikací

Více informací naleznete na stránkách nanoETCH, nebo nás kontaktujte.




další produkty této měřící techniky:
      • ICP RIE leptací aparatura SI 500
      • CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
      • CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
      • ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
      • PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
      • PECVD depoziční aparatura Depolab 200
      • Depoziční systém SI ALD
      • Klastry pro depozice a leptání SENTECH

  Kontakty:


Měřicí technika Morava s.r.o, Babická 619, 664 84 Zastávka u Brna, Česká republika

e-mail: info@mt-m.eu         tel: + 420 513 034 408               podrobné kontakty:         on line schůzka:

Napište nám: