MT-M.eu

MĚŘICÍ TECHNIKY:

Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD

Suché plazmové leptání je základním kamenem výroby mikroelektroniky, zejména díky jednoduchosti použití, homogenitě, opakovatelnosti a vysoké anizotropii.

Využitím plazmatu v technikách plazmochemické depozice je možné významně snížit teplotu substrátu a připravit nové vrstvy mimo podmínky termodynamické rovnováhy. U kapacitně vázaného plazmatu (CCP) je navíc vždy přítomný významný iontový bombard, u induktivně vázaného plazmatu (ICP) je možno dosáhnout vysokých hustot plazmatu, a tedy i vyšší depoziční rychlosti.

SENTECH nabízí aparatury pro depozici i leptání s CCP i ICP zdroji plazmatu, techniku ALD (Atomic layer deposition) s využitím plazmatu a také zapojení těchto aparatur do větších klastrů s transferem vzorků a diagnostikou.

Stránky aparatur SENTECH

• ICP RIE leptací aparatura SI 500
• CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
• CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
• ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
• PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
• PECVD depoziční aparatura Depolab 200
• Depoziční systém SI ALD
• Klastry pro depozice a leptání SENTECH
• nanoETCH Moorfield

Analýza a zobrazování povrchů

Příprava a charakterizace tenkých vrstev

Magnetická rezonance

Rentgenová difrakce, elementární analýza

Fluorescenční a superrezoluční mikroskopy

Měření záření a světla

Aktuálně:

Dodáváme přístroje těchto společností:

KONTAKTY / podrobně

Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD

Zákaznická sekce

Kontakty:

Napište nám: