Domů › Produkty › Depozice, příprava a charakterizace tenkých vrstev › PVD – napařovací a naprašovací depoziční systémy – PLD, MBE

nanoPVD Moorfield

Kompaktní, stolní PVD systém pro napařování nebo naprašování.

Kompaktní, stolní PVD systém pro napařování nebo naprašování

Moorfield uvádí na trh řadu přístrojů nanoPVD pro fyzikální depozici odvozených od designu vlajkové řady MiniLab, ale v kompaktním stolním provedení. Přístroje nanoPVD byly vyvinuty ve spolupráci se špičkovými akademickými skupinami a jsou optimalizované pro snadnost použití, skvělý poměr ceny a užitné hodnoty a efektivní využití prostoru v laboratoři. Díky tomu jsou ideálním řešením tam, kde jsou vedle nekompromisní kvality vrstev navíc vyžadovány nízké nároky na prostor a cenu. Modely nanoPVD pokrývají jak magnetronové naprašování (S10A a S10A-WA) tak i napařování (T15A), včetně nízkoteplotního.

Model nanoPVD-S10A – magnetronové naprašování s RF a/nebo DC zdroji

nanoPVD-S10A

Podporuje až 3 magnetrony se standardní velikostí 2″, vybavené vodním chlazením pro dlouhodobý provoz za vysokého výkonu. Systém čerpá turbomolekulární vývěva, díky čemuž dosahuje velmi nízké kontaminace. Je jej možno provozovat v reaktivním módu s kontrolou až tří pracovních plynů. Rovněž lze používat více magnetronů současně pro ko-depozici z více terčů. Přístup do komory je přes horní víko, standardní držák umožňuje uchycení substrátů o průměru až 4″, v konfiguraci Wide-Area (WA) pak až 8″.

Klíčové vlastnosti:

• kompaktní, stolní konfigurace pro až 4″ substráty
• až 3 vodou chlazené standardní 2″ terče
• až 3 procesní plyny dodávané hmotnostními průtokoměry
• DC a/nebo RF zdroje
• plně automatický provoz ovládaný přes dotykovou obrazovku, ukládání uživatelských receptů
• základní tlak nižší než 5 × 10-7 mbar
• snadný servis a řada bezpečnostních prvků
• kompatibilní s čistými prostory a ověřený výkon

Další volitelné možnosti zahrnují suché čerpání, rychlé zavzdušňování komory, výhřev a rotaci substrátu, depozici na větší substráty o průměru až 8″ a další.

Model T15A – tepelné napařování pro kovy a organické sloučeniny

nanoPVD-T15A

Tyto systémy lze vybavit standardními odporovými zdroji pro napařování kovů i zdroji pro nízkoteplotní napařování (LTE) organických materiálů. Systém čerpá turbomolekulární vývěva, díky čemuž dosahuje velmi nízké kontaminace. Přístup do komory je přes horní víko, standardní držák umožňuje uchycení substrátů o průměru až 4″. Komora je relativně vysoká, což zlepšuje uniformitu napařených vrstev.

Klíčové vlastnosti:

zdroje pro LTE napařování organických materiálů (až 4) a kovů (až 2)
uniformní depozice díky vysokému aspect ratio
plně automatický provoz ovládaný přes dotykovou obrazovku, ukládání uživatelských receptů
základní tlak nižší než 5 × 10^-7 mbar
snadný servis a řada bezpečnostních prvků
kompatibilní s čistými prostory a ověřený výkon

Další volitelné možnosti zahrnují suché čerpání, rychlé zavzdušňování komory, výhřev, posuv a rotaci substrátu, QCM a další.