nanoCVD Moorfield

Stolní CVD systém pro syntézu vysoce kvalitního grafénu a uhlíkových nanotrubek

Systémy nanoCVD firmy Moorfield jsou navržené pro rychlou a cenově efektivní přípravu grafénu a uhlíkových nanotrubek (CNTs) metodou depozice z plynné fáze (CVD). Jsou ideální pro výzkumné skupiny zaměřené na aplikace uhlíkových nanomateriálů, které potřebují spolehlivý a zdroj vzorků „on-demand“. Vývoj těchto systémů probíhal ve spolupráci s Univerzitou Manchester, jejíž grafénová skupina nedávnou získala za svůj objev Nobelovu cenu. Přístroje nanoCVD jsou kompaktní, snadno použitelné a v neposlední řadě také ověřené publikacemi v prestižních časopisech.

Metody CVD jsou považovány za nejslibnější pro průmyslovou produkci vysoce kvalitních uhlíkových nanomateriálů, nutnou pro širší využití unikátních a exotických vlastností grafénu a CNT. Systémy nanoCVD jsou založeny na tzv. „cold-wall“ designu, což v porovnání s klasickými pecemi („hot-wall“) přináší jasné výhody:

• rychlý ohřev a chlazení
• lepší kontrola podmínek a opakovatelnost procesu
• nízká kontaminace
• menší náročnost na zdroje a nižní provozní náklady
• kompaktnost přístroje a jednoduchost umístění v laboratoři

Přístroje řady nanoCVD

nanoCVD-8G

• ultra-kompaktní stolní CVD systém
• reprodukovatelná syntéza vysoce kvalitního grafénu
• teplota až 1100 °C, precizní kontrola podmínek
• maximální velikost substrátu 20 × 40 mm2
• plně automatický, trvání procesu méně než 30 minut
• instalace vyžaduje pouze připojení plynů a elektřiny
• kompatibilní s čistými prostory

nanoCVD-8N

• příprava vysoce kvalitních CNTs
• umožňuje růst různých morfologií:
  • náhodně orientovaných SWNTs
  •  paralelně uspořádaných SWNTs
  • vertikálně orientovaných, tzv. „lesů“ SWNTs
• technické specifikace jsou jinak podobné jako u nanoCVD-8G

nanoCVD-WPG

• příprava vysoce kvalitního grafénu na celých waferech (3“ nebo 4“)
• RF zdroj pro možnost plasma enhanced CVD
• čerpání turbomolekulární vývěvou
• technické specifikace jsou jinak podobné jako u nanoCVD-8G