PECVD depoziční aparatura Depolab 200

Cenově dostupný modulární PECVD depoziční reaktor

Depolab 200 je základní plazmochemický (PECVD – plasma enhanced chemical vapour deposition) reaktor od firmy SENTECH kombinující výhody jednoduchého designu paralelních elektrod pro uniformní depozici a cenově efektivního přímého vládání vzorků na elektrodu. V základní konfiguraci obsahuje vše potřebné pro depozice na až 8″ wafery a může být krok po kroku doplňován pro komplexnější procesy.

Význačné vlastnosti PECVD reaktoru Depolab 200 je spolehlivostodolný design systému a flexibilita softwaru i hardwaru. Depolab 200 je navržen pro plazmochemickou depozici tenkých vrstev SiO2, SiNx, SiONx, a a-Si v teplotním rozsahu až do 400 °C. Na systému již byla vyvinuta řada procesů pro depozice vysoce kvalitních vrstev. Depolab 200 je zejména vhodný pro depozice dielektrických vrstev pro leptací masky, membrány, elektricky izolující vrstvy a další.

Depolab 200 je ovládán pokročilým software firmy SENTECH s uživatelsky přívětivým grafickým rozhraním.

Mám zájem o přístroj

PECVD depoziční aparatura Depolab 200

Kontaktujte našeho obchodníka

Felix Holáň

obchodní zástupce

Měření záření a světla, NMR, depozice, leptání

Kontaktujte našeho obchodníka

Jakub Orolín

obchodní zástupce

Příprava vzorků XRF, elipsometrie, depozice a leptání